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真空镀膜设备的基本技术要求
发布日期:2019-01-09 04:24:11 作者:石岩大华塑胶制品厂 浏览次数:0

真空镀膜设备的基本技术要求

 真空镀膜设备的基本技术要求

 
1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070的规定。
 
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时,应在测量口处安装电场屏蔽装置。
 
3、如果设备使用的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱。
 
4、设备的镀膜室应设有观察窗,应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。
 
5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率,提高镀膜材料的利用率,合理匹配沉积源的功率,合理布置沉积源在真空室体的位置。
 
6、合理布置加热装置,一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
 
7、工件架应与真空室体绝缘,工件架的设计应使工件膜层均匀。
 
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置,维持工作稳定。
 
9、真空室接不同电位的各部分绝缘电阻值的大小:
 
1)环境温度:10-30oC
 
2)相对湿度:不大于75%
 
3)冷却水进水温度:不高于25oC
 
4)冷却水质:城市自来水或相当质量的水
 
5)供电电源:380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需要而定);电压波动范围:342-399V或198-231V;频率波动范围:49-51Hz。
 
6)设备所需的压缩空气,液氮,冷水、热水等
 
 


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